Стр. 13
| Стр.1 | Стр.2 | Стр.3 | Стр.4 | Стр.5 | Стр.6 | Стр.7 | Стр.8 | Стр.9 | Стр.10 | Стр.11 | Стр.12 | Стр.13 | Стр.14 | Стр.15 | Стр.16 | Стр.17 | Стр.18 | Стр.19 | Стр.20 | Стр.21 | Стр.22 | Стр.23 | Стр.24 | Стр.25 | Стр.26 | Стр.27 | Стр.28 | Стр.29 | Стр.30 | Стр.31 | Стр.32 | Стр.33 | Стр.34 | Стр.35 | Стр.36 | Стр.37 | Стр.38 | Стр.39 | Стр.40 | Стр.41 | Стр.42 | Стр.43 | Стр.44 | Стр.45 | Стр.46 | Стр.47 | Стр.48 | Стр.49 | Стр.50 | Стр.51 | Стр.52 | Стр.53 | Стр.54 | Стр.55 | Стр.56 | Стр.57 | Стр.58 | Стр.59 | Стр.60 | Стр.61 | Стр.62 | Стр.63 | Стр.64 | Стр.65 | Стр.66 | Стр.67 | Стр.68 | Стр.69 | Стр.70 | Стр.71 | Стр.72 | Стр.73 | Стр.74 | Стр.75 | Стр.76 | Стр.77 | Стр.78 | Стр.79 | Стр.80 | Стр.81 | Стр.82 | Стр.83 | Стр.84 | Стр.85 | Стр.86 | Стр.87 | Стр.88 | Стр.89 | Стр.90 |
благородные металлы,
модифицированные
алюминидами (3),
MCrAlX (5),
модифицированные виды
циркония (12),
платина,
смеси перечисленных выше
материалов (4)
керамика и силициды,
стекла с малым платина,
коэффициентом смеси перечисленных
расширения (14) выше материалов (4),
слои диэлектриков (15)
титановые бориды,
сплавы (13) нитриды,
оксиды,
силициды,
алюминиды,
сплавы алюминидов (2),
карбиды
углерод-углерод, силициды,
керамика и карбиды,
композиционные тугоплавкие металлы,
материалы с смеси перечисленных выше
металлической материалов (4),
матрицей слои диэлектриков (15)
цементированный карбиды,
карбид вольфрам,
вольфрама (16), смеси перечисленных
карбид кремния выше материалов (4),
слои диэлектриков (15)
молибден и его слои диэлектриков (15)
сплавы
бериллий и его бориды,
сплавы слои диэлектриков (15)
материалы окон слои диэлектриков (15)
датчиков (9)
тугоплавкие алюминиды,
металлы и силициды,
сплавы (8) оксиды,
карбиды
7. Ионная высокотемпера- добавки хрома, тантала
имплантация турные стойкие или ниобия
стали (колумбия в США)
титановые бориды,
сплавы (13) нитриды
бериллий и бориды,
его сплавы
цементированный карбиды,
карбид нитриды
вольфрама (16)
______________________________
*) См. пункт примечаний к данной таблице, соответствующий
указанному в скобках.
Примечания к таблице:
1. Процесс нанесения покрытия включает как нанесение нового
покрытия, так и ремонт и обновление существующих покрытий
2. Покрытие сплавами алюминида включает единичное или
многократное нанесение покрытий, в ходе которого на элемент или
элементы осаждается покрытие до или в течение процесса
алюминидирования, даже если на эти элементы были осаждены покрытия с
помощью других процессов. Это, однако, исключает многократное
использование одношагового процесса пакетной цементации для
получения сплавов алюминидов
3. Покрытие благородными металлами, модифицированными
алюминидами, включает многошаговое нанесение покрытий, в котором
благородный металл или благородные металлы нанесены ранее каким-либо
другим процессом до применения метода нанесения алюминида
4. Смеси включают инфильтрующий материал, композиции,
выравнивающие температуру процесса, присадки и многоуровневые
материалы и получаются в ходе одного или нескольких процессов
нанесения покрытий, изложенных в таблице
5. MCrAlX соответствует сложному составу покрытия, где М
эквивалентно кобальту, железу, никелю или их комбинации, а Х
эквивалентно гафнию, иттрию, кремнию, танталу в любом количестве или
другим специально внесенным добавкам свыше 0,01% (по весу) в
различных пропорциях и комбинациях, кроме:
а) CoCrAlY - покрытий, содержащих менее 22% (по весу) хрома,
менее 7% (по весу) алюминия и менее 2% (по весу) иттрия; или
б) CoCrAlY - покрытий, содержащих 22-24% (по весу) хрома,
10-12% (по весу) алюминия и 0,5-0,7% (по весу) иттрия; или
в) NiCrAlY - покрытий, содержащих 21-23% (по весу) хрома,
10-12% (по весу) алюминия и 0,9-1,1% (по весу) иттрия
6. Термин "алюминиевые сплавы" соответствует сплавам с
предельным значением прочности на разрыв 190 МПа или более,
измеренным при температуре 293 К (20°С)
7. Термин "коррозиестойкая сталь" относится с сталям,
удовлетворяющим требованиям стандарта Американского института железа
и стали, в соответствии с которым производится оценка по 300
различным показателям, или требованиям соответствующих национальных
стандартов для сталей
8. К тугоплавким металлам относятся следующие металлы и их
сплавы: ниобий (колумбий - в США), молибден, вольфрам и тантал
9. Материалами окон датчиков являются: алюмин (оксид алюминия),
кремний, германий, сульфид цинка, селенид цинка, арсенид галлия,
некоторые галогениды металлов (иодистый калий, фтористый калий), а
окон датчиков диаметром более 40 мм - бромистый таллий и
хлоробромистый таллий
10. Технология для одношаговой пакетной цементации твердых
профилей крыльев не подвергается ограничению по Категории 2
11. Полимеры включают: полиамид, полиэфир, полисульфид,
поликарбонаты и полиуретаны
12. Термин "модифицированные виды циркония" означает цирконий с
внесенными в него добавками оксидов других металлов (таких, как
оксиды кальция, магния, иттрия, гафния, редкоземельных металлов) в
соответствии с условиями стабильности определенных
кристаллографических фаз и фазы смещения. Термостойкие покрытия из
циркония, модифицированные кальцием или оксидом магния методом
смешения или расплава, не контролируются
13. Титановые сплавы определяются как аэрокосмические сплавы с
предельным значением прочности на разрыв 900 МПа или более,
измеренным при 293 К (20°С)
14. Стекла с малым коэффициентом расширения определяются как
стекла, имеющие коэффициент температурного расширения 10 в степени
-7 К в степени -1 или менее, измеренный при 293 К (20°С)
15. Диэлектрические слоевые покрытия относятся к многослойным
изолирующим материалам, в которых интерференционные свойства
конструкции сочетаются с различными индексами переотражения, что
используется для отражения, передачи или поглощения различных
волновых диапазонов. Диэлектрические слоевые покрытия состоят из
четырех и более слоев диэлектрика или слоевой композиции
диэлектрик-металл
16. Цементированный карбид вольфрама не включает материалы,
применяемые для резания и формования металла, состоящие из карбида
вольфрама/(кобальт-никель), карбида титана/(кобальт-никель), карбид
хрома/(никель-хром) и карбид хрома/никель
Технические примечания к таблице:
Процессы, представленные в графе "Наименование процесса
нанесения покрытия", определяются следующим образом:
1. Химическое осаждение паров - это процесс нанесения чисто
внешнего покрытия или покрытия с модификацией покрываемой
поверхности, когда металл, сплав, композиционный материал,
диэлектрик или керамика наносятся на нагретое изделие. Газообразные
реактивы разлагаются или соединяются на поверхности изделия, в
результате чего на ней образуются желаемые элементы, сплавы или
компаунды. Энергия для такого разложения или химической реакции
может быть обеспечена за счет нагрева изделия плазменным разрядом
или лучом лазера
Особые примечания:
а) химическое осаждение паров включает следующие процессы:
беспакетное нанесение покрытия прямым газовым потоком, пульсирующее
химическое осаждение паров, управляемое термическое нанесение с
ядерным дроблением, с применением мощного потока плазмы или
химическое осаждение паров с участием плазмы;
б) пакет означает погружение изделия в пудру из нескольких
составляющих;
в) газообразные продукты (пары, реагенты), используемые в
беспакетном процессе, применяются с несколькими базовыми реакциями и
параметрами, такими, как пакетная цементация, кроме случая, когда на
изделие наносится покрытие без контакта со смесью пудры
2. Физическое осаждение паров с ионизацией посредством
резистивного нагрева - это процесс чисто внешнего покрытия в вакууме
с давлением меньше 0,1 Па, когда источник тепловой энергии
используется для превращения в пар наносимого материала. В
результате процесса конденсат или покрытие осаждается на
соответствующие части поверхности изделия. Появляющиеся в вакуумной
камере газы в процессе осаждения поглощаются в большинстве
модификаций процесса элементами сложного состава покрытия.
Использование ионного или электронного излучения или плазмы для
активизации нанесения покрытия или участия в этом процессе также
свойственно большинству модификаций процесса физического осаждения
паров с ионизацией посредством резистивного нагрева. Применение
мониторов для обеспечения измерения в ходе процесса оптических
характеристик или толщины покрытия может быть реализовано в будущем.
Специфика физического осаждения паров с ионизацией посредством
резистивного нагрева заключается в следующем:
а) при электронно-лучевом физическом осаждении для нагревания и
испарения материала, наносимого на изделие, используется электронный
луч;
б) при физическом осаждении с терморезистором в качестве
источника тепла, способного обеспечить контролируемый и равномерный
(однородный) поток паров материала покрытия, используется
электрическое сопротивление;
в) при выпаривании лазером для нагрева материала, который
формирует покрытие, используется импульсный или непрерывный лазерный
луч;
г) в процессе покрытия с применением катодной дуги в качестве
материала, который формирует покрытие и имеет установившийся разряд
дуги на поверхности катода после моментального контакта с
заземленным пусковым устройством (триггером), используется
расходуемый катод. Контролируемая дуговая эрозия поверхности катода
приводит к образованию высокоионизированной плазмы. Анод может быть
коническим и располагаться по периферии катода через изолятор или
сама камера может играть роль анода. Для нелинейного управления
нанесением изоляции используются изделия с регулированием их
положения.
Особое примечание.
Описанный в подпункте "г" процесс не относится к нанесению
покрытий произвольной катодной дугой с фиксированным положением
| Стр.1 | Стр.2 | Стр.3 | Стр.4 | Стр.5 | Стр.6 | Стр.7 | Стр.8 | Стр.9 | Стр.10 | Стр.11 | Стр.12 | Стр.13 | Стр.14 | Стр.15 | Стр.16 | Стр.17 | Стр.18 | Стр.19 | Стр.20 | Стр.21 | Стр.22 | Стр.23 | Стр.24 | Стр.25 | Стр.26 | Стр.27 | Стр.28 | Стр.29 | Стр.30 | Стр.31 | Стр.32 | Стр.33 | Стр.34 | Стр.35 | Стр.36 | Стр.37 | Стр.38 | Стр.39 | Стр.40 | Стр.41 | Стр.42 | Стр.43 | Стр.44 | Стр.45 | Стр.46 | Стр.47 | Стр.48 | Стр.49 | Стр.50 | Стр.51 | Стр.52 | Стр.53 | Стр.54 | Стр.55 | Стр.56 | Стр.57 | Стр.58 | Стр.59 | Стр.60 | Стр.61 | Стр.62 | Стр.63 | Стр.64 | Стр.65 | Стр.66 | Стр.67 | Стр.68 | Стр.69 | Стр.70 | Стр.71 | Стр.72 | Стр.73 | Стр.74 | Стр.75 | Стр.76 | Стр.77 | Стр.78 | Стр.79 | Стр.80 | Стр.81 | Стр.82 | Стр.83 | Стр.84 | Стр.85 | Стр.86 | Стр.87 | Стр.88 | Стр.89 | Стр.90 |
|
